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【光刻机之战：荷兰小国的千亿豪赌】在当今科技高度全球化的时代，能够制造原子弹的国家并不罕见。然而，有一项技术却始终被牢牢掌握在一家欧洲企业手中——那就是极紫外（EUV）光刻机。它的造价高达十多亿元人民币，全球芯片制造商却仍趋之若鹜、一机难求。你可能很难想象，这台被誉为“半导体工业皇冠”的设备，竟出自一个国土面积仅4万平方公里、人口不足1700万的国家——荷兰。更令人惊讶的是，缔造这一奇迹的企业阿斯麦（ASML），在二十多年前还只是一支蜷缩在飞利浦大楼外临时木板房里的30人团队，甚至办公环境简陋到与垃圾桶并列。
回溯至2000年初，全球光刻机市场几乎被日本巨头尼康垄断。彼时的阿斯麦规模微小、资源匮乏，在技术、资金与人才三重压力之下艰难求生。然而，正是这种边缘化的处境，塑造了阿斯麦敢于冒险、敢于“赌命”的企业基因。
转机出现在2002年左右。当时，半导体行业遭遇了前所未有的技术瓶颈。基于193纳米深紫外（DUV）的光刻技术在推进至65纳米制程后陷入停滞，全球产业仿佛撞上一堵无形的高墙。芯片制造能否跨入45纳米乃至更低的节点，成为摆在所有企业面前的生死命题。
面对这一共同困局，日本光刻机双雄——尼康与佳能——选择了一条看似最稳妥的道路：继续缩短曝光波长，全力研发157纳米深紫外光刻机。这条路虽符合技术演进的常规逻辑，却极为艰难且成本高昂。
与此同时，一位来自台积电的工程师林本坚，提出了一个被许多人视为“荒诞”的解决方案——浸润式光刻。他设想以水作为介质，置于光刻机镜头与硅晶圆之间，利用水对193纳米紫外光高达1.44的折射率，使得光波在水中等效波长骤降至....全文更精彩